未来情報産業研究館は、民間企業のご理解と寄付により未来科学技術共同研究センター（通称：ニッチェ）の中の研究施設として、平成14年1月末に竣工式を終え、本格稼動し始めました。この施設では、産官学連携共同研究であるプロジェクト「21世紀型顧客ニーズ瞬時製品化対応新生産方式の創出」を推進し、半導体の超高性能化技術、超短期間製造技術の研究・開発を行っています。
　この施設は、地下1階、地上6階の建物で、地下1階から地上4階にかけ約600�Fと700�Fのクリーンルームが2室設置されています。次世代半導体の研究を行うため、一九八六年片平キャンパスに建設したスーパークリーンルーム、1989年青葉山キャンパスに建設したミニスーパークリーンルームで得られた構築技術の成果をもとに、塵埃･温度･湿度･気流・微細振動・微量のアウトガス・磁場変動・電源電位（アース）などが制御されており、半導体プロセスに影響を与える「バラツキ、変動、揺らぎ、雑音」を一切排除しています。今後、この施設を用いて東北大学発の革新的技術を創出し続けるべく、私たちは日々努力していきたいと考えております。
ホームページアドレス　http://www.fff.niche.tohoku.ac.jp/
大見 忠弘（東北大学名誉教授・ ニッチェ 未来情報産業創製寄附研究部門教授）